尼康于2023年12月10日宣布，將于2024年1月正式推出ArF 193納米浸沒式光刻機(jī)“NSR-S636E”。這款光刻機(jī)采用了增強(qiáng)型iAS設(shè)計(jì)，可用于高精度測(cè)量、圓翹曲和畸變校正，重疊精度(MMO)更高，號(hào)稱不超過2.1納米。

　　NSR-S636E還采用了新一代光源和光學(xué)系統(tǒng)，可提高生產(chǎn)效率。將為客戶提供更高精度、更高效率的光刻解決方案，滿足未來摩爾定律的需求。

　　NSR-S636E的售價(jià)為約100億日元，比上一代產(chǎn)品降低了約30%。