新型的微影機每臺造價超過3億美元，將協(xié)助英特爾制造更小和更快的芯片。

　　阿斯麥在X平臺發(fā)布了一張照片，顯示該機器的一部分正從荷蘭的Veldhoven市總部出發(fā)，機器放在一個保護殼里，周圍系著一條紅帶。

　　阿斯麥在聲明中說：“我們很高興、并自豪地把我們第一臺High NA EUV系統(tǒng)運送給英特爾”。

　　阿斯麥主導(dǎo)著全球微影系統(tǒng)市場，該機器使用激光光來創(chuàng)造芯片的電路。High NA EUV機臺組裝起來會比一輛卡車更大，目前正裝在250個獨立的箱子運輸，其中包括13個大型貨柜。預(yù)計該系統(tǒng)將在2026年或2027年開始正式投入于商業(yè)芯片制造。

　　英特爾是在2022年首次下訂High NA EUV。已經(jīng)下訂該款機臺的大廠包括臺積電、三星電子、SK海力士、美光。